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News
| January-March, 2002 | |
日経マイクロデバイス 2002年1月号〜3月号に論文投稿、"ブラック・ボックスIP"目指した設計環境(前編/中編/後編)
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| January 22, 2002 | |
[Qualification]
「設計スタイルガイド2002」開発完了を新聞発表
STARC and hd Lab jointly developed "HDL Design Style Guide 2002"
- [新聞発表内容] - [FULL STORY ...]
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| October, 2001 | |
企業間IPデータ交換標準仕様実証実験の取組みGlobal化
- [参加会社募集説明会を開催]
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| August 23, 2001 | |
[Common DR, Library]
STARC推奨「0.1μm共通デザインルール/セルライブラリ」制定・発表
Announcement of STARC recommend "Common Design Rules and Cell Libraries for 0.1 micron"
- [新聞発表内容] - [FULL STORY ...]
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| February, 2001 | |
[SoLID]
IP次世代データ構造のうち、STARC推奨インターフェイス仕様記述言語についての要求仕様を定義、
その要求仕様との合致度評価によりIP次世代データ構造のベースとするプロパティ記述言語を2候補選定
第1候補 "e"(Verisity)、第2候補 "xOwL"(Hitachi)
- [背景と選定経緯]
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In The News
[Common DR, Library]
日立など電機大手5社を中心に次世代半導体を共同開発へ=JEITA
ロイターニュース
March 20, 2002
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[Common DR, Library]
日本のLSIが勝ち残るには,「設計インフラやプロセスの標準化が急務」
NIKKEI ELECTRONICS ONLINE (朝倉博史=横浜発)
January 25, 2002
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[SoLID]
日立中研と富士通研など,IPコアのインターフェイス仕様記述言語を共同開発(発表資料要約)
NIKKEI ELECTRONICS ONLINE (小島郁太郎)
January 24, 2002
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[Qualification]
Synopsys社とエッチ・ディー・ラボ,HDLチェッカで協力
NIKKEI ELECTRONICS ONLINE (小島郁太郎)
January 18, 2002
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[Common DR, Library]
VSIA会議,STARC推奨0.1μm設計ルールを発表
NIKKEI ELECTRONICS ONLINE (井上隆秀=米U.C. Berkeley)
October 5, 2001
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[Common DR, Library]
Starc consortium proposes 0.10-micron process standards
By Paul Kallender, EE Times
August 24, 2001
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[Common DR, Library]
STARCが標準ルール策定,一つのIPを複数の工場で製造可能に
NIKKEI ELECTRONICS ONLINE (長広恭明)
August 23, 2001
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[Common DR, Library]
Semi industry reconstruction to launch in Japan
By Yoshiko Hara, EE Times
September 22, 2000
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[Common DR, Library]
STARC,国内LSIメーカ11社の0.13μmプロセスの2次元レイアウトとSPICEパラメータの統一を提唱
NIKKEI ELECTRONICS ONLINE (大石基之)
September 20, 2000
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