<目的>
・SoC(システム・オン・チップ)設計生産性を飛躍的に向上し、先進半導体技術を最大限活用して高付加価値を生み出すための新しい設計手法や
設計技術を開発すると共にその標準化を推進する。
・国内半導体の競争力の強化と活性化を図るべく、業界標準となるSoC設計プラットフォームを確立する。
新世代設計メソドロジ技術開発
最先端プロセスに対応するSoCのシリコンインプリメンテーションにおける設計メソドロジの開発、実用化を行うとともに
標準・共通設計メソドロジプラットホームを確立 |
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上位設計技術開発
大規模化するSoC設計の設計期間短縮と設計の最適化のための、システムレベル、アーキテクチャ、ソフトウェア等の上流の
設計手法開発および設計自動化技術開発 |
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テスト設計技術開発
| 超微細化CMOSでのSoCテスト品質及びテストコストを最適化するテスト容易化設計、故障診断技術の開発 |
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nmプロセス物理設計技術
数十nmレベルのプロセス時代における、デバイス/配線のモデリング技術、SI(シグナルインテグリティ)/DFT(Design for Manufacturability)
設計技術、RF技術の開発とTEGによる検証 |
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ナノメータ時代のSoC設計を支える基本ライブラリの開発
・ASPLA90nmプロセスによるSoC設計に必要な基本ライブラリの開発整備
・IP流通を円滑に行うためのインフラ整備
・ASPLAプロセスの量産工場移管検証技術の開発
・次世代65nmプロセスに対応するライブラリ開発準備(2003年下期から) |
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これまでのプロジェクト
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