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高位設計技術開発

株式会社半導体理工学研究センター
開発第2部 高位設計開発室

 

 設計に対する微細化の影響はDFMだけではなく、マスクコスト増大に伴うリワーク・リスクの増大、設計規模拡大に伴う設計期間の長大化という側面があります。設計が複雑化する一方で、リワークを防ぎながら短期開発することが要求され、設計品質と設計生産性を同時に飛躍的に向上させる必要が出てきました。

TL設計の現状

 今は設計者の頭の中で行われている「仕様/機能→RTL」という設計工程を自動化する、TL設計が期待されています。TL設計では、仕様/機能を抽象度の高いTL(※)で書いて検証し、検証済みTLから自動的にRTLを合成します。設計の源流で検証を行い、その結果を自動合成することにより、設計品質と設計生産性を同時に向上させることができます。しかし、TLモデルやライブラリの再利用が進まないこと、このエリアの多くのEDAツールが単なるポイントツールであることから、適用が遅々として進まないのが現状です。

本活動の目的

 TL設計を実用化し適用を進めるために、リファレンスとなるTLモデリングガイドラインと、市販EDAツールによる実用的なTL設計メソドロジを開発することです。
 上位設計開発室との違い:図にあるように、上位設計開発室が主に技術開発を中心に活動されていたのに対し、本活動は、市販ツールを用いたメソドロジの開発とモデリングの標準化を中心に活動して行きます。

活動方針

 本活動は選択コアであり、基本はクライアント5社の開発部門の一部として活動して行きます。これに加えて、クライアント各社だけでは行えない標準化/普及活動を各社の要求と整合された形で進めていきます。さらに、出向メンバが本活動を通してTL設計のスペシャリスト、業界のキーパーソンとなることを目指します。

抱 負

 今までこのエリアの社内ツールの開発/普及に携わってきましたが、本活動の企画検討を通して、TL設計の適用拡大にはモデリングガイドラインの標準化、市販ツールベースのメソドロジ実用化が必須と考えるようになりました。この目標を達成すべく頑張りますので、ご指導、ご鞭撻のほどよろしくお願いします。

(以下注)
※TL ・・・ トランザクション・レベルのこと。高位設計の標準となる設計インターフェースで、論理設計におけるRTLのようなもの

開発室活動状況

★ 2006年7月 SystemC Japan 2006(※1)基調講演
基調講演:ITRSにみる設計技術課題とその解決策の考察
  /SystemCによるTL設計とSTARCの取組み
講演資料:SystemCJapan2006_starc.pdf
 ※1 ・・・SystemC関連製品を提供しているEDAリーディング・カンパニー各社による、SystemCに関する最先端の技術講演と展示
★ 2007年1月 システム・デザイン・フォーラム2007/SystemCユーザフォーラム(※2)
セミナー:TLM標準化の動向について
リンク:「システム・デザイン・フォーラム2007」
リンク:「EDA Express【EDSFレポート】SystemCをより使い易く!各種ガイドライン作成が進行中〜SystemCユーザ・フォーラム2007」
 ※2 ・・・C言語ベースのシステムレベル設計言語の業界標準であるSystemCについて、ロードマップや、標準化、設計事例等のセミナー
★ 2007年1月 EDSF2007セミナー
出展者セミナー:TLM標準化の動向   講演資料デモンストレーション
ブース・セミナー:TLM標準によるTL設計の普及   講演資料デモンストレーション
★ STARCニュース掲載
No. 28あすかUプロジェクト&新プログラム紹介
選択プログラム:高位設計技術開発
No. 29STARC部門紹介 開発第2部
No. 30TL実用化への第一歩